产品中心
型号
半导体/液晶面板刻蚀工艺所有零部件等离子涂层所用粉末原材料，以及半导体/液晶面板真空腔体陶瓷零部件制品。
应用方向
刻蚀机腔体非钇基材表面涂层；陶瓷基体零部件原材料。
产品特点
氧化钇喷涂粉体，原晶粒度集中在80纳米，晶格稳定不吸碳，涂层强度达到45 MPa以上，晶内空隙率低、晶格缺陷小、晶化程度高、晶格外延呈规律性周期变化的优良粉体；在熔射法等离子喷涂领域，氧化钇具有小尺寸效应，极易在瞬间熔融沾粘在基材表面，形成均匀较强的结合力；氧化钇分散性好，粒径分布窄，对热稳定性高，涂层晶粒不易长大，涂层微粒之间力学性能好，抗外界侵蚀能力强；氧化钇，晶格完整不易形成缺陷中心吸附杂质，涂层不会因本体吸碳泛红。
产品用途
在芯片刻蚀过程中，刻蚀腔的环境良好对于芯片加工质量和成本同样起着关键作用。在刻蚀腔体的石英基材中涂覆氧化硅复合氧化钇（Si-Y-O）、在氧化铝陶瓷表层喷涂氧化铝复合氧化钇（YAG）及YOF和YF3，经受刻蚀过程中高氟环境和热辐射对基材的侵蚀。
